Intel's 14A-plan B: High-NA EUV of niet, de chips komen eraan
Veldhoven, dinsdag, 6 mei 2025.
Intel houdt een ‘achterdeur’ open voor de 14A-familie. Mocht de veelbelovende High-NA EUV-technologie tegenslag ondervinden, dan schakelt Intel over op de beproefde Low-NA EUV. Opmerkelijk is dat Intel claimt dat beide methoden een vergelijkbare opbrengst leveren. Dit geeft klanten zekerheid. De kostprijs van een ASML Twinscan NXE:5000 High-NA EUV machine bedraagt ongeveer 400 miljoen euro. Intel minimaliseert risico’s en vermijdt herhaling van de 10nm-productieproblemen.
Flexibiliteit in chipproductie
Intel wil de 14A-productie starten, waarbij voor het eerst High-NA EUV-belichting met een diafragma van 0,55 wordt gebruikt voor enkele chip lagen [1]. Echter, Intel houdt een alternatief achter de hand, mocht de High-NA EUV-technologie niet aan de verwachtingen voldoen [1]. Alleen de Intel 14A-familie is specifiek ontworpen om High-NA EUV in de belichting te gebruiken [1]. Voor de Intel 18A zal een diafragma van 0,33 worden gebruikt [1]. Deze flexibiliteit moet de continuïteit in de chipproductie waarborgen.
Risicobeperking en kosten
Het gebruik van High-NA EUV brengt risico’s met zich mee, waaronder technische uitdagingen en hoge kosten [1]. Een enkele ASML Twinscan NXE:5000 High-NA EUV-machine kost ongeveer 400 miljoen euro [1]. Naga Chandrasekaran, EVP, CTO en GM van Intels gieterijdivisie, stelt dat het risico wordt geminimaliseerd door de productie in Intel 14A zo te ontwerpen dat zowel High-NA EUV (0,55 NA) als Low-NA EUV (0,33 NA) gebruikt kan worden [1]. Intel heeft al een tweede High-NA EUV-machine in Oregon geïnstalleerd [5].
Vergelijkbare ontwerpvoorschriften
De ontwerpvoorschriften voor beide fabricageprocessen blijven vergelijkbaar [1]. Klanten en Intel zelf hoeven geen wijzigingen aan te brengen in het chipontwerp [1]. High-NA EUV zal sowieso maar voor een paar metaallagen worden gebruikt, de rest wordt gefabriceerd met Low-NA EUV [1]. De paar lagen met High-NA EUV kunnen geconverteerd en vervangen worden [1]. Een High-NA EUV-laag met één belichtingsstap wordt dan ingeruild voor een Low-NA EUV-laag met drievoudige patroonvorming, en dus drie belichtingsstappen [1].
Gelijke opbrengst
Intel heeft data die aantoont dat de opbrengst van Intel 18A en Intel 14A gelijk is voor zowel High-NA EUV als Low-NA EUV [1]. Dit betekent dat er geen significante impact zal zijn op de time-to-market, zelfs als de ontwikkeling van High-NA EUV vertraging oploopt of om economische of technische redenen wordt uitgesloten [5]. Deze gelijkwaardige opbrengst is mogelijk dankzij de vooruitgang in multipatterning technologieën [5].